文章余序鴻赴美硏習專利學成返國

来源期刊：《青田會刊》 第15期　 作者：周逢熙　出版时间：1979-02-01
关键字： 余序鸿 专利制度 技术水平

靑年聯誼會連絡組組長余序鴻小姐，前赴美國專利商標局硏習專利制度，已圓滿達成任務，於十一月廿三日飛返臺北。據悉：此次赴美，係參加聯合技術協助委員會計劃，硏習美國之專利制度。於上（六十七）年九月十三日起程，經舊金山至美京華盛頓，參加美國國家科技資料中心之「資料系統」訓練，爲期二週。旋至商務部專利商標局參加爲期三週之「專利商標實體審查訓練」；並與有關人員互相交換意見，頗具心得。接着參觀美國國家標準局及德州奧斯汀大學。復至洛杉磯、舊金山等地，參觀加州電力硏究中心...