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  • 文章余序鸿赴美硏习专利学成返国

    来源期刊:《青田會刊》 第15期  作者:周逢熙 出版时间:1979-02-01
    关键字: 鸿 专利制度 技术水平

    靑年联谊会连络组组长余序鸿小姐,前赴美国专利商标局硏习专利制度,已圆满达成任务,于十一月廿三日飞返台北。据悉:此次赴美,系参加联合技术协助委员会计划,硏习美国之专利制度。于上(六十七)年九月十三日起程,经旧金山至美京华盛顿,参加美国国家科技资料中心之「资料系统」训练,为期二周。旋至商务部专利商标局参加为期三周之「专利商标实体审查训练」;并与有关人员互相交换意见,颇具心得。接着参观美国国家标准局及德州奥斯汀大学。复至洛杉矶、旧金山等地,参观加州电力硏究中心

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