文章余序鴻赴美硏習專利學成返國

来源期刊：《青田會刊》 第15期　 作者：周逢熙　出版时间：1979-02-01
关键字： 余序鸿 专利制度 技术水平

靑年联谊会连络组组长余序鸿小姐，前赴美国专利商标局硏习专利制度，已圆满达成任务，于十一月廿三日飞返台北。据悉：此次赴美，系参加联合技术协助委员会计划，硏习美国之专利制度。于上（六十七）年九月十三日起程，经旧金山至美京华盛顿，参加美国国家科技资料中心之「资料系统」训练，为期二周。旋至商务部专利商标局参加为期三周之「专利商标实体审查训练」；并与有关人员互相交换意见，颇具心得。接着参观美国国家标准局及德州奥斯汀大学。复至洛杉矶、旧金山等地，参观加州电力硏究中心