青田會刊

卷期(号): 第15期

出版日期:1979-02-01

出版周期:季刊

开  本:32开

余序鴻赴美硏習專利學成返國
作  者: 周逢熙 出版日期: 1979-02-01
文章页数: 1 页 报告大小: 1.13M
文章字数: 380 字 所属期刊: 第15期
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摘要:

靑年聯誼會連絡組組長余序鴻小姐,前赴美國專利商標局硏習專利制度,已圓滿達成任務,於十一月廿三日飛返臺北。據悉:此次赴美,係參加聯合技術協助委員會計劃,硏習美國之專利制度。於上(六十七)年九月十三日起程,經舊金山至美京華盛頓,參加美國國家科技資料中心之「資料系統」訓練,爲期二週。旋至商務部專利商標局參加爲期三週之「專利商標實體審查訓練」;並與有關人員互相交換意見,頗具心得。接着...